Institut Kejuruteraan Nano Elektronik

Universiti Malaysia Perlis

  • Facebook
  • Instagram
  • Twitter
  • YouTube
  • Tentang Kami
    • Latar Belakang
    • Misi dan Visi
    • Organisasi
    • Piagam Pelanggan
    • Video Korporat
    • Kepakaran Kami
    • Pengakuan
    • Brosur
  • Ahli akademik
    • Sarjana Sains
    • Doktor Falsafah
    • Pelajar Pascasiswazah
    • Alumni
  • Penyelidikan
    • Aktiviti Penyelidikan
      • Bidang Penyelidikan
      • Fokus Penyelidikan
      • Projek Penyelidikan
        • Produk
      • Kerjasama
      • Penerbitan
        • Papan skor
    • Kemudahan Penyelidikan
  • Hubungi Kami
    • Direktori Kakitangan
    • Maklum balas
  • Galeri
    • Video
    • Audio
  • Muat turun
    • Arkib
    • Penerbitan
    • Borang
    • Kesedaran OBE
    • Laporan
  • Pautan Pantas
    • Pautan Sokongan
    • Soalan Lazim
    • Peta Laman
    • Fakulti
    • Jabatan Lain
    • Acara
Anda berada di sini: Laman Utama / Penerbitan / Nanogaps Formation Using Scanning Electron Microscope (SEM) Based E-Beam Lithography (EBL) Technique

Nanogaps Formation Using Scanning Electron Microscope (SEM) Based E-Beam Lithography (EBL) Technique

July 17, 2014 Oleh Editor

Abstract – The semiconductor industry and wafer fabrication developments are driven by customer’s needs. Customers require faster, more reliable and lower cost chips. To achieve this, chip manufacturers and researchers have learned to reduce the size and dimension of component on the chip. The physical dimension of a feature on the chip is referred to as the feature size.[…]

Keywords – semiconductor, fabrication

Corresponding Author: Mohammad Nuzaihan Md Nor
Corresponding Author’s Email: m.nuzaihan@unimap.edu.my

Teks penuh: PDF

Kongsikan ini:

  • Kongsi di Facebook (Buka dalam tetingkap baharu) Facebook
  • Kongsi di X (Buka dalam tetingkap baharu) X
  • Kongsi di Pinterest (Buka dalam tetingkap baharu) Pinterest
  • Emel pautan kepada rakan (Buka dalam tetingkap baharu) Emel
  • Lebih lanjut
  • Kongsi di Reddit (Buka dalam tetingkap baharu) Reddit
  • Kongsi di LinkedIn (Buka dalam tetingkap baharu) LinkedIn
  • Kongsi di WhatsApp (Buka dalam tetingkap baharu) WhatsApp
  • Cetak (Buka dalam tetingkap baharu) Cetak
  • Kongsi di Telegram (Buka dalam tetingkap baharu) Telegram

Filed Under: Publications Tagged With: fabrication, semiconductor

BERITA @ INEE

  • IJNeaM Achieves a JCR Impact Factor of 0.8
  • Taklimat Hala Tuju Penyelidikan oleh Timbalan Naib Canselor Penyelidikan & Inovasi (TNC P&I) dan Pencapaian INEE 2022-2025
  • Sentuhan Kasih INEE 2026M/1447H
  • Program Cahaya Prihatin: Elektrik Untuk Masyarakat 2025
  • Persidangan Antarabangsa ke-2 mengenai Nanoteknologi & Penyelidikan Bahan (ICONMAR 2025)

ACARA & AKTIVITI

  • Lawatan daripada Fakulti Teknologi Lanjutan dan Pelbagai Disiplin (FTMM), Universitas Airlangga
  • Lawatan daripada Syarikat Aromaticroot
  • Panggilan untuk Kertas Kerja: BOND21 2026
  • Lawatan oleh Pelajar SJK (C) Nan Kwang
  • Jelajah INEE Nano – Siri 4
Dasar Privasi | Dasar Keselamatan | Penafian | Peta Laman | Soalan Lazim | Maklum balas | Panduan Pengguna | Muat turun | Siswazah

Institut Kejuruteraan Nano Elektronik, Universiti Malaysia Perlis
Lot 106, 108 & 110, Blok A, Taman Pertiwi Indah,
Jalan Kangar-Alor Setar, Seriab 01000 Kangar, Perlis, Malaysia
Tel: +604-979 8581 Faks: +604-979 8578 Emel: webmaster.inee@unimap.edu.my

Hak Cipta © INEE UniMAP

  • Facebook
  • Instagram
  • Twitter
  • YouTube

Untuk paparan terbaik, sila gunakan versi terkini Internet Explorer, Mozilla Firefox dan Google Chrome dengan resolusi 1280 x 768 dan ke atas.

Rakan Kongsi BioNexus (BNP)

QS 5 Bintang

myGov

Logo UniMAP

Designed by Mohd Isa from Portal Kerjaya & Sumber Rujukan Malaysia

  • English